技術突破與拓展(20 世紀 60 年代 - 80 年代)到了 60 年代,隨著半導體產業的興起,真空鍍膜機迎來了重要的發展契機。1965 年,寬帶三層減反射系統研制成功,滿足了光學領域對更高性能薄膜的...
技術突破與拓展(20 世紀 60 年代 - 80 年代)到了 60 年代,隨著半導體產業的興起,真空鍍膜機迎來了重要的發展契機。1965 年,寬帶三層減反射系統研制成功,滿足了光學領域對更高性能薄膜的...
技術突破與拓展(20 世紀 60 年代 - 80 年代)到了 60 年代,隨著半導體產業的興起,真空鍍膜機迎來了重要的發展契機。1965 年,寬帶三層減反射系統研制成功,滿足了光學領域對更高性能薄膜的...
鍍膜機的技術發展趨勢: 高精度與大尺寸滿足大尺寸面板(如8K電視玻璃)和微納結構的高精度鍍膜需求。環保與節能開發低溫CVD、原子層沉積(ALD)等低能耗技術,減少有害氣體排放。多功能集成結合...
鍍膜機的技術發展趨勢: 高精度與大尺寸滿足大尺寸面板(如8K電視玻璃)和微納結構的高精度鍍膜需求。環保與節能開發低溫CVD、原子層沉積(ALD)等低能耗技術,減少有害氣體排放。多功能集成結合...
真空離子蒸發鍍膜機原理:通過加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,并沉降在基片表面形成薄膜。磁控濺射鍍膜機原理:利用電子或高能粒子轟擊靶材,使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并沉積在基...
光學鍍膜機:用于制備增透膜、高反膜、截止濾光片、防偽膜等,廣泛應用于光學鏡頭、眼鏡、激光器等領域。 電子鍍膜機:用于半導體、集成電路的金屬化層、絕緣層沉積,如薄膜電阻器、薄膜電容器等。 ...
濺射鍍膜機: 原理與特點:濺射鍍膜機利用高能粒子(如氬離子)轟擊靶材,使靶材原子濺射并沉積到基體表面。該技術膜層致密、附著力強,適合復雜工件,且可沉積材料種類多樣。優勢:廣泛應用于刀具硬質涂...
實現特殊功能光學性能調控:在光學領域,鍍膜機可以通過精確控制薄膜的厚度和折射率等參數,制備出具有特定光學性能的薄膜,如增透膜、反射膜、濾光膜等。這些光學薄膜廣泛應用于相機鏡頭、望遠鏡、顯微鏡、太陽能電...
光學鏡片和鏡頭應用:鍍制增透膜、反射膜、濾光膜等功能性薄膜,改善光學元件的性能。激光器件應用:鍍制高反射率的金屬膜或介質膜,提高激光的反射效率和輸出功率。太陽能電池應用:制備減反射膜和金屬電極薄膜,提...
離子鍍機: 原理與特點:離子鍍機在鍍膜過程中引入離子轟擊,通過高能粒子碰撞改善膜層性能。該技術膜層附著力極強,可制備超硬、耐磨涂層,繞鍍性能優異。 優勢:適用于航空航天部件防護涂層(如...
技術升級與廣泛應用(21 世紀初至今)2000 年代中期至今,以北京中科儀、沈陽中科儀等為的企業成為行業者,持續進行技術創新和產品研發,并積極開拓國際市場。隨著納米技術和新材料的發展,真空鍍膜機在新能...
裝飾領域: 珠寶首飾鍍膜:在珠寶、首飾表面鍍上一層金屬或合金薄膜,如鍍銀、鍍金、鍍銠等,可以增加其光澤度和美觀度,同時提高耐磨性和耐腐蝕性。此外,還可以通過鍍膜技術實現各種特殊的顏色和效果,...
濺射鍍膜: 原理:濺射鍍膜是在真空環境下,利用荷能粒子(如氬離子)轟擊靶材(鍍膜材料)表面。當氬離子高速撞擊靶材時,靶材表面的原子會被濺射出來。這些被濺射出來的原子具有一定的動能,它們會在真...
化學氣相沉積鍍膜機:化學氣相沉積鍍膜機依靠氣態的化學物質在高溫、低壓環境下發生化學反應,生成固態產物并沉積在工件表面。不同類型的化學氣相沉積鍍膜機,反應條件有所不同。常壓化學氣相沉積在常壓下進行,設備...
化學氣相沉積鍍膜機:化學氣相沉積鍍膜機依靠氣態的化學物質在高溫、低壓環境下發生化學反應,生成固態產物并沉積在工件表面。不同類型的化學氣相沉積鍍膜機,反應條件有所不同。常壓化學氣相沉積在常壓下進行,設備...
光學領域: 鏡頭鍍膜:在相機、攝像機、望遠鏡等光學鏡頭上鍍膜,可減少光線反射,增加透光率,提高成像清晰度和色彩還原度。例如,多層增透膜能使鏡頭在不同波長的光線下都有較高的透光率,減少鬼影和眩...
具體應用功能裝飾功能:真空鍍膜可以為各種物品增加外觀的光澤和彩度,提升美觀度。例如,用于手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品,可以鍍上超耐磨裝飾(金銀)納米膜和納米疊層膜,使其更加閃耀和耐用。保護功能:鍍膜...
真空系統工作原理: 真空鍍膜機工作的第一步是建立真空環境。其真空系統主要由真空泵(如機械真空泵、擴散真空泵等)組成。機械真空泵通過活塞或旋片的機械運動,將鍍膜室內的氣體抽出,使氣壓初步降低。...
裝飾和防護領域: 五金裝飾鍍膜:對五金制品如門把手、水龍頭等進行鍍膜。可以鍍上各種顏色的金屬膜,如仿金色(通過鍍氮化鈦等薄膜來模擬金色外觀),用于裝飾目的,使產品更加美觀。同時,這些鍍膜還可...
離子鍍膜機:利用離子轟擊基板表面以改善涂層附著性和膜厚均勻性,適用于制備金屬、陶瓷和聚合物等材料的薄膜。蒸發鍍膜機:通過加熱材料讓其蒸發并沉積在基板表面形成薄膜,包括電阻蒸發真空鍍膜設備、電子束蒸發真...
航空航天領域: 飛行器零部件鍍膜:在航空發動機葉片、渦輪盤等零部件表面鍍膜,可以提高其耐高溫、抗氧化、抗腐蝕性能,延長零部件的使用壽命。例如,在發動機葉片表面鍍上熱障涂層,可以有效降低葉片的...
初步發展(20 世紀 30 年代 - 50 年代)20 世紀 30 年代,油擴散泵 - 機械泵抽氣系統的出現,為真空鍍膜的大規模應用創造了條件。1935 年,真空蒸發淀積的單層減反射膜研制成功,并在 ...
真空度:高真空度是獲得高質量膜層的關鍵。蒸發鍍膜一般需達到 10?3 - 10??Pa,濺射鍍膜通常需 10?? - 10??Pa。鍍膜速率:在滿足鍍膜質量的前提下,鍍膜速率越高,生產效率越高。不同鍍...
按其他標準分類: MBE分子束外延鍍膜機:是一種用于制備高質量薄膜的先進設備,主要應用于半導體、光學和超導等領域。 PLD激光濺射沉積鍍膜機:利用高能激光束轟擊靶材,使靶材物質以離子或...
精確控制膜層:現代鍍膜機配備了先進的控制系統,可以精確控制鍍膜的厚度、成分、均勻性等參數,確保每一批產品的鍍膜質量穩定一致。以半導體芯片制造為例,需要精確控制鍍膜厚度在納米級別,鍍膜機能夠滿足這種高精...
提升產品性能:通過在物體表面鍍上一層或多層薄膜,可以顯著提高產品的耐磨性、耐腐蝕性、硬度、導電性、導熱性、光學性能等。例如,在刀具表面鍍膜可以提高其硬度和耐磨性,延長使用壽命;在光學鏡片上鍍膜可以增加...
鍍膜機的組件: 真空系統提供高真空環境(通常為10?3至10?? Pa),防止薄膜材料氧化或污染。鍍膜源蒸發源(電阻加熱、電子束加熱)、濺射靶材、化學前驅體供應裝置等。基材夾具固定和旋轉基材...
蒸發鍍膜機: 電阻加熱蒸發鍍膜機:通過電阻加熱使靶材蒸發,適用于低熔點材料(如鋁、銀)。 電子束蒸發鍍膜機:利用電子束轟擊高熔點靶材(如鎢、氧化物),蒸發溫度可達3000℃以上,適用于...
其他優勢: 適用范圍廣:鍍膜機可以在各種不同的材料表面進行鍍膜,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,幾乎涵蓋了所有常見的材料類型。而且對于不同形狀、尺寸的工件,無論是平面、曲面還是復雜的三維結構,...