電鍍銅優勢在于可助力電池提效0.3-0.5%+，進而提高組件功率。相較于銀包銅+0BB/NBB工藝，我們預計銀包銅+0BB/NBB工藝或是短期內HJT電池量產化的主要降本路徑，隨著未來銀含量30%銀包銅漿料的導入，漿料成本有望降至約3分/W，HJT電池金屬化成本或降至5分/W左右。電鍍銅工藝有望于2023-2024年加快中試，并于2024年逐步導入量產。隨著工藝經濟性持續優化，電鍍銅HJT電池的金屬化成本有望降至5-6分/W左右，疊加考慮0BB/NBB對應組件封裝/檢測成本提升，而電鍍銅可提升效率約0.5%+，電鍍銅優勢逐漸強化，有望成為光伏電池無銀化的解決方案。光伏電鍍銅設計的導電方式主要有彈片式導電舟方式、水平滾輪導電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。上海釜川電鍍銅設備

電鍍銅是一種常見的表面處理方法，用于在金屬表面形成一層銅膜，以提高其耐腐蝕性、導電性和美觀度。電鍍銅的關鍵是電鍍液，它是由多種化學物質組成的復雜溶液，主要成分包括以下幾種：1.銅鹽：電鍍液中主要的成分是銅鹽，通常使用的是硫酸銅或酒石酸銅。銅鹽是電鍍銅的原料，通過電解反應將其還原成銅金屬。2.酸：電鍍液中的酸可以起到調節pH值的作用，使電鍍液保持在適宜的酸堿度范圍內。常用的酸有硫酸、酒石酸、草酸等。3.添加劑：電鍍液中還需要添加一些特殊的添加劑，以控制電鍍過程中的各種參數，如電流密度、溫度、表面張力等。常用的添加劑有增塑劑、緩沖劑、表面活性劑等。4.離子：電鍍液中還包含一些離子，如氯離子、硫酸根離子等，它們可以影響電鍍過程中的離子傳輸和沉積速度?？傊婂円菏且环N復雜的化學溶液，其中的各種成分都起到了重要的作用，它們共同作用才能實現高質量的電鍍銅。上海釜川電鍍銅設備圖形化與電鍍銅替代銀漿絲網印刷。

電鍍銅圖形化環節主要包含掩膜、曝光、顯影幾個步驟。其中，掩膜環節是將抗刻蝕的感光材料涂覆在電池表面以遮蓋保護不需要被電鍍的區域，感光材料主要有濕膜油墨、干膜材料等。曝光、顯影環節是將圖形轉移至感光材料上，主要技術有LDI激光直寫光刻（無需掩膜）、常規掩膜光刻技術、激光開槽、噴墨打印等；其中無需掩膜的LDI激光直寫光刻技術應用潛力較大，激光開槽在BC類電池上已有量產應用，整體看圖形化技術路線有望逐步明確和定型。

光伏電池電鍍銅工序包括種子層制備、圖形化、電鍍三大環節，涌現多種設備方案。電鍍銅 工藝尚未定型，各環節技術方案包括（1）種子層：設備主要采用 PVD，主要技術分歧 在于是否制備種子層、制備整面/局部種子層和種子層金屬選用；（2）圖形化：感光材料 分為干膜和油墨，主要技術分歧在于曝光顯影環節選用掩膜類光刻/LDI 激光直寫/激光 開槽；（3）電鍍：主要技術分歧在于水平鍍/垂直鍍/光誘導電鍍。釜川（無錫）智能科技有限公司，以半導體生產設備、太陽能電池生產設備為主要產品，打造光伏設備一體化服務。擁有強大的科研團隊，憑借技術競爭力，在清洗制絨設備、PECVD設備、PVD設備、電鍍銅設備等方面都有獨特優勢；以高效加工制造、快速終端交付的能力，為客戶提供整線工藝設備的交付服務。光伏電鍍銅設備圖形轉移技術， 會用到曝光機、油墨印刷機等。

電鍍銅圖形化環節主要包含掩膜、曝光、顯影幾個步驟。其中，掩膜環節是將抗刻蝕的感光材料涂覆在電池表面以遮蓋保護不需要被電鍍的區域，感光材料主要有濕膜油墨、干膜材料等。曝光、顯影環節是將圖形轉移至感光材料上，主要技術有LDI激光直寫光刻（無需掩膜）、常規掩膜光刻技術、激光開槽、噴墨打印等；其中無需掩膜的LDI激光直寫光刻技術應用潛力較大，激光開槽在BC類電池上已有量產應用，整體看圖形化技術路線有望逐步明確和定型。電鍍銅可以用于各種形狀和大小的金屬表面，包括復雜的三維表面，具有廣泛的應用范圍。上海釜川電鍍銅設備

電鍍銅路線PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性、高耐腐蝕性及化學穩定性，膜層的壽命更長。上海釜川電鍍銅設備

銅電鍍與傳統絲網印刷的差異主要在TCO膜制備工序之后，前兩道的工藝制絨與PVD濺射未變：傳統異質結產線在TCO膜制備之后采用銀漿印刷和燒結，而銅電鍍則把銀漿絲網印刷替換成制備銅柵線的圖形化和金屬化兩大工序。圖形化工藝：PVD（氣相沉積法）設備在硅片TCO表面濺射一層100nm的銅種子層，使用石蠟或油墨印刷機（掩膜一體機）的濕膜法制作掩膜/噴涂感光膠，印刷、烘干后經過曝光機曝光處理后，將感光膠或光刻膠上的圖形顯影。金屬化工藝：特定圖形的銅沉積（電鍍銅），然后使用不同的抗氧化方法進行處理（電鍍鋅或使用抗氧化劑制作保護層），除去之前的掩膜/感光膠，刻蝕去除多余銅種子層，避免電鍍銅在種子層腐蝕過程中引入缺陷，露出原本的TCO，其后再進行表面處理，至此形成完整的銅電鍍工序。整個過程使用的主要設備是電鍍設備。上海釜川電鍍銅設備