見下附表1-16~1-19)﹐鍍層名稱﹐基-材料用元素符號表示1-16symbolindicatingtheplating方法名稱英文符號電鍍electroplatingEp化學鍍AutocatalyticplatingAp電化學處理ElectrochemicaltreatmentEt化學處理ChemicaltreatmentCt1-17symbolsindicatingaftertreamentAftertreatmentSymbolHydrogenremovingbakingDiffusionheattreatmentGlosschromatetreatmentColouredchromatetreatmentP**ntingColuringAntitarnishtreatmentHBDHCM1CM2PACLAT1-18symbolindicatingaftertreatmentsTypeofcoatingSymbolInformativerefernce(classificationofcoatings)GlosscoatingDull-finishcoatingVelvet-likecoatingNonsmoothcoatingDullcoatingCom****itecoatingBlackcoatingbsvnmcpbkCopper,coating,nickel,coating,chromiumcoating,goldcoating,silvercoating,alloycoatingDuplexplatedcoatingTriplexplatedcoatingdtNickelcoatingandthelikeNormalcoatingMicroporouscoatingMicrocrackedcoatingCrack-freecoatingrmpmccfChromiumcoating1-19usingenvironments。電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，歡迎客戶來電！江蘇電鍍回收

上槽體10與下槽體50的總高度為約1公尺至2公尺。下槽體50包含隔擋件51，隔擋件51將下槽體50分隔為***下槽區(qū)52與第二下槽區(qū)53。隔板60設(shè)于上槽體10與下槽體50之間，隔板60具有至少一***排水孔61及至少一第二排水孔62，使上槽體10與下槽體50相連通，其中***排水孔61及第二排水孔62分別設(shè)于陰極20的相對兩側(cè)，且***排水孔61設(shè)于***下槽區(qū)52上方，第二排水孔62設(shè)于第二下槽區(qū)53上方。在一些實施例中，***排水孔61與第二排水孔62的形狀包括，但不限于圓形或多邊形。在一些實施例中，***排水孔61的數(shù)量為多個，且這些***排水孔61排成一列，并與呈長板形的***陽極30平行排列。在一些實施例中，第二排水孔62的數(shù)量為多個，且這些第二排水孔62排成一列，并與呈長板形的第二陽極40平行排列。在一些實施例中，這些***排水孔61與這些第二排水孔62的形狀為圓形，直徑為，較佳為、、、、、、、、、、、、、、。在一些實施例中，這些***排水孔61與這些第二排水孔62的數(shù)量分別為10個至100個，較佳為1、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90或100個。在一些實施例中，相鄰的兩個***排水孔61或相鄰的兩個第二排水孔62之間的距離為5毫米至50毫米。四川電鍍供應(yīng)商電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，讓您滿意，歡迎新老客戶來電！

9潤濕劑：能降**件與溶液間的界面張力，使制件表面容易被潤濕的物質(zhì)。10添加劑：在溶液中含有的能改進溶液電化學性能或改善鍍層質(zhì)量的少量添加物。11緩沖劑：能夠使溶液PH值在一定范圍內(nèi)維持基本恒定的物質(zhì)。12移動陰極：采用機械裝置使被鍍制件與極杠一起作周期性往復(fù)運動的陰極。測試和檢驗術(shù)語1不連續(xù)水膜：通常用于表面被污染所引起的不均勻潤濕性，使表面上的水膜變的不連續(xù)。2孔隙率：單位面積上***的個數(shù)。3***：從鍍層表面直至底層覆蓋層或基體金屬的微小孔道，它是由于陰極表面上的某些點的電沉積過程受到障礙，使該處不能沉積鍍層，而周圍的鍍層卻不斷加厚所造成。4變色：由于腐蝕而引起的金屬或鍍層表面色澤的變化(如發(fā)暗、失色等)。5結(jié)合力：鍍層與基體材料結(jié)合的強度。6起皮：鍍層成片狀脫離基體材料的現(xiàn)象。7剝離：某些原因（例如不均勻的熱膨脹或收縮）引起的表面鍍層的破碎或脫落。8桔皮：類似于桔皮波紋狀的表面處理層。9海綿狀鍍層：在電鍍過程中形成的與基體材料結(jié)合不牢固的疏松多孔的沉積物。10燒焦鍍層：在過高電流下形成的顏色黑暗、粗糙、松散等質(zhì)量不佳的沉積物，其中常含有氧化物或其他雜質(zhì)。11麻點：在電鍍或腐蝕中。

電鍍銅裝飾酸性銅之配方以下即為高速鍍銅槽液(陰極電極密度CCD平均為80－100ASF)的典型組成，其中酸與銅之重量比即1:1者:本配方若采用常規(guī)電流密度(20－40ASF)之掛鍍者，其酸銅比應(yīng)6:1以上。若又欲改采低速鍍銅時(5-15ASF),其酸銅比還可拉高到10－15/l的地步。故基本配方的變化范圍很大，完全依操作條件而定。至于**具影響力的有機助劑，則其商品*劑之性能又彼此不同，必須實地操作才能找到**佳狀況。通常此種裝飾銅的厚度都很薄()，主要目的是在減少刮傷與凹陷而鋪平底村，使后續(xù)的裝飾鎳與薄鉻層才有機會發(fā)揮更好的光澤，至于抗拉強度或延伸率等，對于裝飾用途者通常不太講究。電鍍銅電路板掛鍍銅之配方為了能使孔壁銅厚達到規(guī)范的要求(平均lmil)，以及耐得住熱應(yīng)力的考驗起見(早先為288℃十秒鐘漂錫一次而不斷孔，目前由于封裝載板的加入，又再嚴格到漂錫五次不可斷孔)用于PCB的酸性銅已普遍改為酸銅比10/1的下列配方。此種典型槽液經(jīng)歷甚久目前仍在業(yè)界大量使用，且當通孔之縱橫比增高時，其酸銅比也須隨之增大，以保證孔銅厚度的及格與均勻。電鍍銅吹氣與過濾酸性銅之操作必須吹氣，其功用系在協(xié)助槽液的攪拌以達濃度之均勻，減少亞銅離子(Cu+)的發(fā)生。電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，用戶的信賴之選，有需求可以來電咨詢！

微盲孔之孔徑在3mi以下之淺小而多用于封裝載板者，實填的問題還不算嚴重，某幾種商業(yè)鍍銅制程也還頗能讓人滿意。然而增二式手機板其BGA球腳墊內(nèi)的二階盲孔，不但口徑大到6－8mil之間，且其漏斗形深度也接近3mil。加以**新亮相超難密距(－Pitch)的拉近與擠壓墊面空間，使得墊徑又被緊迫縮小到只剩下12－14mil左右，逼得盲孔表面的環(huán)寬竟只剩下3mil而已。如此局限又險惡地形之錫膏承焊，安得不令八頻捏大把冷汗？是故填孔鍍銅幾乎已經(jīng)成為勢在必行的工藝了。電鍍銅預(yù)布焊料之填孔***一點的讀者也許還記得，七年前Pentium(586)的時代，其CPU是采“卷帶自動結(jié)合(TAB)的封裝方式。此大型晶片封裝完工之多腳組件，下游還要進行板面的貼焊組裝。該QFP四邊外伸貼焊之I/O共得320腳，單邊80只平行伸腳彼此之密集櫛比，逼得承接的長方焊墊也隨之并肩鱗次，密密麻麻，方寸之間逼得相鄰腳墊之跨距(Pitch)擁擠到不足10mil!墊寬(Width)*5mil，墊距(SPacing)更在5mil以下的艱困境界。如此之密距多墊及狹面之高難度錫膏印刷，有誰能夠保證不出差錯？即使錫膏印刷得以過關(guān)，其后續(xù)的放置(Placement)踩腳與高溫熔焊(Reflow)之二種更難工序。浙江共感電鍍有限公司是一家專業(yè)提供 電鍍產(chǎn)品的公司，有想法的不要錯過哦！天津電鍍公司

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轉(zhuǎn)化膜：對金屬進行化學或電化學處理所形成的含有該金屬之化合物的表面膜層。鋼鐵發(fā)藍（鋼鐵化學氧化）：將鋼鐵制件在空氣中加熱或浸入氧化性的溶液中，使之于表面形成通常為藍（黑）色的薄氧化膜的過程。沖擊電流：電流過程中通過的瞬時大電流。光亮電鍍：在適當條件下，從鍍槽中直接得到具有光澤鍍層的電鍍。合金電鍍：在電流作用下，使兩種或兩種以上金屬（也包括非金屬元素）共沉積的過程。多層電鍍：在同一基體上先后沉積上幾層性質(zhì)或材料不同的金屬層的電鍍。沖擊鍍：在特定的溶液中以高的電流密度，短時間電沉積出金屬薄層，以改善隨后沉積鍍層與基體間結(jié)合力的方法。磷化：在鋼鐵制件表面上形成一層不溶解的磷酸鹽保護膜的處理過程。熱抗散：加熱處理鍍件，使基體金屬和沉積金屬（一種或多種）擴散形成合金的過程。鍍前處理和鍍后處理術(shù)語化學除油：在堿性溶液中借助皂化作用和乳化作用***制件表面油污的過程。電解除油：在含堿溶液中，以制件作為陽極或陰極，在電流作用下，***制件表面油污的過程。出光：在溶液中短時間浸泡，使金屬形成光亮表面的過程。機械拋光：借助于高速旋轉(zhuǎn)的抹有拋光膏的拋光輪，以提高金屬制件表面光亮度的機械加工過程。江蘇電鍍回收