多層膜XRR引言X射線反射率（XRR：X-RayReflectivity）單層薄膜或多層膜中各層薄膜的密度、膜厚、粗糙度等結構參數的有效無損檢測手段。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現的：配置儀器時，免工具、免準直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。從微米到納米厚度的涂層或外延膜的樣品都受益，用于評估晶體質量、薄膜厚度、成分外延排列和應變松弛技術。浙江上海XRD衍射儀

超薄HfO2薄膜XRR測試引言隨著晶體管節點技術的發展，薄膜厚度越來越薄。比如高-柵介電薄膜HfO2的厚度往往小于2nm。在該技術節點的a20范圍內。超薄膜的均勻性是制備Hf基柵氧化物的主要工藝難題之一。為了控制超薄HfO2薄膜的厚度和密度，XRR是的測量技術。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。無論是新手用戶還是專業用戶，都可簡單快捷、不出錯地對配置進行更改。這都是通過布魯克獨特的DAVINCI設計實現的：配置儀器時，免工具、免準直，同時還受到自動化的實時組件識別與驗證的支持。不止如此——布魯克提供基于NIST標樣剛玉（SRM1976）的準直保證。目前，在峰位、強度和分辨率方面，市面上尚無其他粉末衍射儀的精度超過D8ADVANCE。浙江上海XRD衍射儀D8 DISCOVER 特點：UMC樣品臺可對重達5 kg的樣品進行掃描、大區域映射300mm的樣品、高通量篩選支持三個孔板。

XRD檢測納米二氧化鈦晶粒尺寸引言納米材料的性能往往和其晶粒大小有關，而X射線衍射是測定納米材料晶尺寸的有效方法之一。晶粒尺寸Dhkl(可理解為一個完整小單晶的大小)可通過謝樂公示計算Dhkl：晶粒尺寸，垂直于晶面hkl方向β:hkl晶面的半高寬（或展寬）θ：hkl晶面的bragg角度λ：入射X光的波長，一般Cu靶為1.54埃K：常數（晶粒近似為球形，K=0.89；其他K=1）ADVANCE采用了開放式設計并具有不受約束的模塊化特性的同時，將用戶友好性、操作便利性以及安全操作性發揮得淋漓盡致，這就是布魯克DAVINCI設計

對于需要探索材料極限的工業金屬樣品，通常需要進行殘余應力和織構測量。通過消除樣品表面的拉應力或引起壓應力，可延長其功能壽命。這可通過熱處理或噴丸處理等物理工藝來完成。構成塊狀樣品的微晶的取向，決定了裂紋的生長方式。而通過在材料中形成特定的織構，可顯著增強其特性。這兩種技術在優化制造法（例如增材制造）領域也占有一席之地。由于具有出色的適應能力，使用D8ADVANCE，您就可對所有類型的樣品進行測量：從液體到粉末、從薄膜到固體塊狀物。定性相分析和結構測定 微米應變和微晶尺寸分析 應力和織構分析 粒度和粒度分布測定 微米大小X射線束局部分析。

D8DISCOVER特點：微焦源IμS配備了MONTEL光學器件的IμS微焦源可提供小X射線束，非常適合小范圍或小樣品的研究。1.毫米大小的光束：高亮度和很低背景2.綠色環保設計：低功耗、無耗水、使用壽命延長3.MONTEL光學器件可優化光束形狀和發散度4.與布魯克大量組件、光學器件和探測器完全兼容。5.提供各種技術前列的全集成X射線源，用于產生X射線。6.工業級金屬陶瓷密封管，可實現線焦斑或點焦斑。7.專業的TWIST-TUBE（旋轉光管）技術，可快速簡便地切換線焦斑和點焦斑。8.微焦斑X射線源（IμS）可提高極小焦斑面積上的X射線通量，而功耗卻很低。9.TURBOX射線源（TXS）旋轉陽極可為線焦斑、點焦斑和微焦斑等應用提供比較高X射線通量。10.性液態金屬靶METALJET技術，可提供無出其右的X射線光源亮度。11.高效TurboX射線源（TXS-HE）可為點焦斑和線焦斑應用提供比較高X射線通量，適用于D8DISCOVERPlus。12.這些X射線源結合指定使用X射線光學元件，可高效捕獲X射線，并將之轉化為針對您的應用而優化的X射線束。D8 DISCOVER系列包括DISCOVER和DISCOVER Plus版本，可通過使用的是標準D8測角儀還是ATLAS測角儀進行區分。浙江上海XRD衍射儀

這種X射線源可提供高亮度光束，對mm大小的樣品研究，或使用μm大小光束進行微區X射線衍射研究的理想選擇。浙江上海XRD衍射儀

D8DISCOVER是旗艦款多功能X射線衍射儀，帶有諸多前沿技術組件。它專為在環境條件下和非環境條件下，對從粉末、非晶和多晶材料到外延多層薄膜等各種材料進行結構表征而設計。應用范圍：1.定性相分析和定量相分析、結構測定和精修、微應變和微晶尺寸分析2.X射線反射法、掠入射衍射（GID）、面內衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI應力分析、晶體取向分析3.殘余應力分析、織構和極圖、微區X射線衍射、廣角X射線散射（WAXS）4.總散射分析：Bragg衍射、對分布函數（PDF）、小角X射線散射（SAXS）浙江上海XRD衍射儀