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蘇州SDL12E50干式真空泵價格

來源: 發布時間:2024年06月28日

干式真空泵的應用范圍比較廣,主要有以下幾個方面:1)低壓化學氣相沉積中的多晶硅制備工藝中;2)半導體刻蝕工藝。在這些生產工藝中往往用到或生成腐蝕性氣體和研磨微粒;3)除半導體工藝外的某些產生微粒的工藝,不希望微粒混入泵油中,而希望微粒排出泵外,則用一定型式的干式機械真空泵可以滿足要求;4)用做一般無油清潔真空系統的前級泵,以防止油污染。5)在化學工業、醫藥工業、食品工業中的蒸餾、干燥、脫泡、包裝等,要防止有機溶劑造成污染,適合用干式真空泵;浚和(上海)儀器有限公司為您提供干式真空泵,歡迎您的來電哦!蘇州SDL12E50干式真空泵價格

0.8電源電壓:3相A C200-220V,380-480V外型尺寸WHL[mm]二、配置清單:序號描述數量備注1SDE8060主機一臺1標配2電源線1標配3冷卻水管路接頭1標配4操作手柄1標配5產品合格證1標配6消音器(原廠件,選配)未包含7入口過濾器(選配,非原廠件)未包含設備原產地:日本日本KASHIYAMA真空泵特性:1、設備運轉時,旋葉與旋葉、旋葉與腔壁之間沒有任何摩擦,保證設備長期正常工作。2、采用空冷式方式,不需配置冷卻水,從而節省空間。3、采用氣鎮(GasBallast)結構,可以排出所吸取的水蒸氣。4、若只抽取空氣與氮氣的情況下,只需三年維護一次,延長了設備的使用壽命,降低真空泵的使用成本。蘇州SDL12E50干式真空泵價格浚和(上海)儀器有限公司干式真空泵值得用戶放心。

螺桿式干式真空泵的應用螺桿式干式真空泵廣應用于電子、核能、化工、醫藥、食品工業等領域。在半導體工業中用于生產芯片、制造液晶顯示器、蝕刻、生產 SMA的CVD制程。在核工業中用于核反應堆及核工業真空獲得;化工上用于真空蒸餾及溶劑萃取高效回 收溶劑,在脂肪酸生產中用來消除水污染,移除噴射器中的阻塞物;醫藥工業中用于回收藥液及藥品中間體,為人造組織生產提供清潔無菌條件,回收氣體消毒劑;食品工業中用于香料、香精濃縮,食品包裝等。應用范圍極為廣。具體如下:具體應用:干燥處理、真空蒸餾、分子蒸餾、溶劑的回收、油氣回收、工廠普通真空、電子、真空鍍膜、航空、核工業領域能夠抽除普通空氣,易燃易爆氣體、腐蝕性氣體,尤其能滿足對獲得清潔真空要求較高的環境。具體應用:真空鍍膜、真空蒸餾、真空干燥、拉單晶、特氣制造、離子刻蝕等。紡織、冶金等行業在氨綸、芳綸、纖維、冶金等相關工藝中應用干式真空泵,具體應用:真空脫泡、VOD真空吹氧脫碳法等。

0.5電源電壓:3相AC200-220V,380-480V外型尺寸WHL[mm]:460×960×900二、配置清單:序號描述數量備注1S DE20M12TX主機一臺1標配2電源線1標配3冷卻水管路接頭1標配4操作手柄1標配5產品合格證1標配6消音器(原廠件,選配)未包含7入口過濾器(選配,非原廠件)未包含設備原產地:日本日本KASHIYAMA真空泵特性:1、設備運轉時,旋葉與旋葉、旋葉與腔壁之間沒有任何摩擦,保證設備長期正常工作。2、采用空冷式方式,不需配置冷卻水,從而節省空間。3、采用氣鎮(GasBallast)結構,可以排出所吸取的水蒸氣。4、若只抽取空氣與氮氣的情況下,只需三年維護一次,延長了設備的使用壽命,降低真空泵的使用成本。浚和(上海)儀器有限公司是一家專業提供干式真空泵的公司,有想法的不要錯過哦!

日本KASHIYAMAMU100P/H干式真空泵技術參數&配置清單一、技術參數:式樣:MU100P/HMAX排氣速度(L/min):1660達到壓力(Pa):3.0電源電壓:3相AC200-220V消費電力(KW):0.7KW外型尺寸WHL[mm]:350×360×630質量【kg】:70kg二、配置清單:序號描 述數量備注1MU100P/H主機一臺,電壓AC三相200V1標配2電源線1標配3冷卻水管路接頭1標配4操作手柄1標配5產品合格證1標配6消音器(原廠件,選配)未包含7入口過濾器(選配,非原廠件)未包含設備原產地:日本干式真空泵,就選浚和(上海)儀器有限公司,用戶的信賴之選,歡迎新老客戶來電!蘇州SDL12E50干式真空泵價格

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日本KASHIYAMAMU1218X干式真空泵技術參數&配置清單一、技術參數:式樣:MU1218XMAX排氣速度(L/min):20000達到壓力(Pa):0.5電源電壓:3相AC200-220V消費電力(KW):O.9KW外型尺寸WHL[mm]:870×380×751質量【kg】:270kg二、配置清單:序號描述數量備注1MU1218X主機一臺,電壓AC三相200V1標配2電源線1標配3冷卻水管路接頭1標配 4操作手柄1標配5產品合格證1標配6消音器(原廠件,選配)未包含7入口過濾器(選配,非原廠件)未包含設備原產地:日本蘇州SDL12E50干式真空泵價格

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