磨拋耗材，電解拋光機械拋光有機械力的作用，會不可避免地產生金屬變形層，使金屬擾亂層加厚，出現偽組織。而電解拋光是利用電解方法，以試樣表面作為陽極，逐漸使凹凸不平的磨面溶解成光滑平整的表面。因無機械力作用，故無變形層，亦無金屬擾亂層，能顯示材料的真實組織，并兼有浸蝕作用。適用于硬度較低的單項合金、容易產生塑性變形而引起加工硬化的金屬材料，如奧氏體不銹鋼、高錳鋼、有色金屬和易剝落硬質點的合金等試樣拋光。磨拋材料，多晶金剛石懸浮液可以為后續精密拋光加工提供了良好的條件。金剛石拋光劑磨拋耗材

磨拋耗材，二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。普遍用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。此外也可應用在如不銹鋼、鋁合金、銅合金等金屬材料的精細拋光。尤其是在制備包含陶瓷的金相試樣時更是不可或缺。二氧化硅膠體粒子呈球狀，粒度均勻，分散性好，不會對拋光面產生物理損傷，拋光速率快，可有效去除劃痕，降低拋光后的表面粗糙度。使用二氧化硅拋光后的表面潔凈無污、顏色鮮亮分明。 金剛石拋光劑磨拋耗材磨拋材料，二氧化硅拋光液，高拋光速率、高純度，有效減小對電子類產品玷污、高平坦度。

磨拋耗材，金剛石懸浮研磨拋光液和金相拋光布如何配合使用，拋光是金相試樣磨制的是消除試樣細磨下的細微磨痕，得到平整、光亮、無痕的鏡面。理想的拋光面應是平整、光亮、無痕、無浮雕、無蝕坑、無金屬擾亂層，而且石墨及非金屬夾雜物無脫落、無曳尾現象等。磨面拋光的質量取決于細磨時所留磨痕的粗細和均勻程度，因拋光能去掉表面極薄的一層金屬。若磨面上磨痕粗細不勻，一味增長拋光時間，也得不到理想鏡面，只有重新細磨，使整個磨面都得到均勻一致單方向的細微磨痕后，再進行拋光。

磨拋耗材，常用的拋光粉性能如下：氧化鋁：又稱剛玉，它有α-Al2O3(六方晶系)和γ-Al2O3(正方晶系)兩種，一般常用α-Al2O3，是通用拋光粉。精拋時，要進行水選分級，其方法是在盛有蒸餾水的容器里加入適量氧化鋁粉，充分攪拌后除去表面上的泡沫，然后靜 置沉降。顆粒越粗，沉降越快，沉降時間越短，所以，靜置時間越長，則懸浮在上部的顆粒也越細、越均勻。一般經過1-5min靜置后用虹吸管吸出或傾倒出懸浮液，可獲得較細的微粉。根據不同靜置時間，可獲得不同粒度的氧化鋁微粉。磨拋耗材，氧化鋁懸浮研磨拋光液，適用于寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。

磨拋耗材，拋光微粉要求具有高硬度和一定的強度，顆粒細而均勻，外形呈多角形，刃口鋒利。外形越尖銳，其磨削作用越強；反之，顆粒呈圓形，只能在拋光布與磨面間滾動，滾壓作用強烈，導致金屬擾亂層加厚，而且易使非金屬夾雜物和石墨曳尾，脫落或擴大凹痕。在常用的拋光粉中，以氧化鎂的硬度比較低，金剛石硬度比較高。拋光粉的硬度以莫氏硬度為標度，是按材料抵抗劃痕的能力來作為硬度標準的，它按自然界中礦物的軟硬順序分為10級。1級比較軟，10級比較硬，金剛石為10級，其它均小于10級。磨拋耗材，金相拋光潤滑冷卻液，增加潤滑性能，提高樣品的表面光潔度，可同時提高金相切割片的壽命。金剛石拋光劑磨拋耗材

磨拋耗材，金相拋光潤滑冷卻液，溶液清澈透明，不含礦物油和亞硝酸鹽。金剛石拋光劑磨拋耗材

磨拋耗材，金相試樣在拋光之前，一般需要進行打磨（磨光）。目的是：去除受影響區（過熱、過冷、變形、開裂等區域）并磨平，為下一步磨光和拋光做好準備。一般來說有手動、半自動、全自動三種選擇。這里說明幾點注意事項。在選擇手動磨光的情況下，磨削應該是單方向向前推動磨制的。在返回原位時，要把金相試樣提起來退回原位，再繼續磨制。返回過程不與金相砂紙接觸，否則容易導致試樣磨面不平整（也就是：塌邊、弧度）。磨制時，對試樣的壓力要均勻、適中。如果壓力太小，磨削的效率就會降低；如果壓力太大，容易產生深劃痕、變形、過熱。當新磨痕覆蓋掉了舊磨痕就可以考慮更換下一號金相砂紙。金剛石拋光劑磨拋耗材

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