磨拋耗材，二氧化硅拋光液(VK-SP50W)使用范圍：可用于微晶玻璃的表面拋光加工中；用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工；用于晶圓的后道CMP清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統、光導攝像管等的加工過程；普遍用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工；本產品可以作為一種添加劑，也可應用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。磨拋材料，氧化鋁拋光粉用于不銹鋼的拋光。上海金剛石拋光劑磨拋耗材廠家批發

磨拋耗材，金剛石懸浮拋光液特性：多晶金剛石拋光液，其特點是有角的金剛石顆粒表面上有無數的切割面，能更好的減少材料表面的變形，更為柔性，鏡面拋光效果和拋光效率相對非常好。對于要求比較高的金相樣品制備很適用。金剛石拋光液作為常見金相拋光液，其質量優劣會直接影響到試樣制備的成敗和效率，如果沒有質量好的金剛石拋光液，即使試樣表面切割的再整齊，研磨工序做的再好，在以金剛石拋光液為主要拋光劑的拋光工序，也很難獲得理想的拋光表面。制樣過程中，前面的研磨工序是基礎，后面的拋光工序，除了制備技術方面的因素外，則主要取決于金剛石拋光液的良好磨削特性和拋光效果。上海金剛石拋光劑磨拋耗材廠家批發磨拋材料，二氧化硅拋光液，高拋光速率、高純度，有效減小對電子類產品玷污、高平坦度。

磨拋耗材，拋光液氧化鋁具有比氧化硅更高的硬度、更好的化學穩定性等特點,傳統上是一常用的研磨拋光材料,但由于該材料,特別的,在納米化時候容易團聚,氧化鋁拋光液給人們留下容易使表面產生劃傷、劃痕的印象,而長時間在藍寶石晶體加工領域被慎重對待。我們通過精細的質量控制,成功地解決了氧化鋁拋光液容易產生劃痕等問題,在正常情況下,本拋光液可以實現Ra≤4A的粗糙度而無明顯的劃痕等缺陷,它可以作為拋光液使用,亦可與傳統的氧化硅溶膠相配合,作為快速粗拋光液使用。

磨拋耗材，鑄鐵及非金屬夾雜物試樣的拋光鑄鐵中的石墨及金屬中的非金屬夾雜物，在拋制中極易拖尾、擴大和剝落，因此多采用手工細磨，磨制時應加肥皂作潤滑劑；亦可用蠟盤代替手工細磨，但必須選用短纖維拋光布，如尼龍，滌綸布，絲綢等。拋光時應不斷轉動試樣，以防單向拖尾，還應盡量縮短磨拋時間。對鑄鐵試樣，因表面易產生麻點、斑痕和氧化，可在拋光盤上加入微量鉻酸酐，可加入防氧化溶液，并用防氧化溶液清洗試樣。防氧化溶液配方如下：亞硝酸鈉/0.010~0.015kg，蘇打灰（200℃焙燒的Na2CO3）/0.003kg，蒸餾水/1000ml。磨拋耗材，金相拋光潤滑冷卻液，防止切割機被腐蝕。

磨拋耗材，綜合拋光單一的拋光方法都不易得到理想的拋光表面，機械拋光雖然能得到平滑表面，但易產生金屬擾亂層和劃痕，電解拋光和化學拋光雖可消除金屬擾亂層，但表面不平整，為取長補短發展了綜合拋光技術，如化學機械拋光、電解機械拋光等。若濕度過大，會減弱磨削作用，增大滾壓作用，使金屬擾亂層加厚，并易將非金屬夾雜和石黑拖出；若濕度過小，潤滑條件極差，因摩擦生熱而使試樣溫度升高，磨面失去光澤，甚至形成黑斑。故懸浮液的滴入量應該是“量少次數多，中心向外擴展”。磨拋耗材，金相拋光織物層精選了不同絨毛長度和布紋的、適合于金相拋光用的織物為材料。上海金剛石拋光劑磨拋耗材廠家批發

磨拋耗材，氧化鋁懸浮研磨拋光液，適用于寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。上海金剛石拋光劑磨拋耗材廠家批發

磨拋耗材，拋光時試樣磨面應平穩輕壓于拋光盤中心附近，沿徑向緩慢往復移動，并逆拋光盤旋轉方向輕微轉動，以防磨面產生曳尾。一般拋光時間在2~5min內即可消除磨痕，得到光亮無痕的鏡面，否則應重新細磨。壓力過大，時間過長，只能加厚金屬擾亂層，使硬質相出現浮雕。拋光結束后立即沖洗試樣，用酒精擦拭，熱風吹干，置于100x金相顯微鏡下觀察，此時能看到非金屬夾雜物或石黑，而且不能有曳尾現象，無劃痕。對于不需要金相攝影的試樣，允許個別細微劃痕殘存。上海金剛石拋光劑磨拋耗材廠家批發

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