金相磨拋機在金相制樣中，如果初次研磨不得當，那么很容易使樣品表面出現劃痕。那我們又如何防止制樣過程中出現劃痕呢，劃痕即是樣品表面上的線性凹槽，是由研磨粒子造成的。應對措施：確定在粗磨后，試樣座上所有樣品的表面都均勻地布滿同樣的磨痕花樣；必要時重新進行粗磨；每一道步聚后均應仔細清潔樣品和試樣座，以去掉前一道工序中的大研磨粒子對磨/拋用具的干擾；如果在現行的拋光工序后仍有前面工序留下的磨痕，請先增加25~50%的制樣時間。金相磨拋機（單盤/雙盤）三檔定速：300、500、800r/min，可自定義。佛山雙盤自動金相磨拋機源頭廠家

金相磨拋機：一般把單相合金或純金屬的化學浸蝕主要看作是化學溶解過程。浸蝕劑首先把磨面表層很薄的變形層溶解掉，接著就對晶界起化學溶解作用。這是因為晶界上原子排列得特別紊亂，其自由能也較高，所以晶界處較容易受浸蝕而呈溝凹，見圖(1-15)(b)。這時顯微鏡下就可看到固溶體或純金屬的多面體晶粒。若繼續浸蝕則會對晶粒產生溶解作用。金屬原子的溶解大都是沿原子排列密的面進行的。由于金相試樣一般都是多晶體，各晶粒的取向不會一致，因此在同一磨面上各晶粒原子排列位向是不同的，所以每一顆晶粒溶解的結果不一樣，都把按原子排列密的面露在表面，也即浸蝕后每個晶粒的面與原磨面各傾了一定的角度。。在垂直照明下，各晶粒的反射光方向不一致，就顯示出亮度不一致的晶粒。佛山雙盤自動金相磨拋機源頭廠家金相磨拋機（雙盤雙控）兩個磨拋盤可單獨操作。

金相磨拋機：拋光目的是消除細磨留下的磨痕，獲得光亮無痕的鏡面。方法有機械拋光、電解拋光、化學拋光和復合拋光等，常用的是機械拋光。（1）機械拋光是在拋光機上進行拋光，靠極細的拋光粉和磨面間產生的相對磨削和滾壓作用來消除磨痕的，分為粗拋光和細拋光兩種1）粗拋光粗拋光一般是在拋光盤上鋪以細帆布，拋光液通常為Cr2O3、Al2O3等粒度為1-5μ的粉末制成水的懸浮液，一般一升水加入5-10克，手握樣品在常用的拋光機上進行。邊拋光邊加拋光液，一般的鋼鐵材料粗拋光可獲得光亮的表面。2）細拋光是在拋光盤上鋪以絲絨，絲綢等，用更細的Al2O3、Fe2O3粉制成水的懸浮液，與粗拋光的方法相同。

金相磨拋機（雙盤自動）PC-200產品特點：8寸觸摸屏操作控制；自動調壓力，精確力度控制；通過編程實現連續制樣，每個工序完成自動停機，方便更換拋光組織物，同時可以暫停查看制樣效果，每部工序計時，能精確的制樣和節省制樣時間。同時也可以通過手動操作參數制樣，方便制樣多樣性；一次可制樣1-6個；可連接自動滴液器功能；自動鎖緊功能7、LED燈照明；錐度磨盤系統，更換清理更容易；防濺水橢圓水槽設計可靠保護部件的使用壽命及保持機臺的整潔；大口徑的排水管道，不容易堵塞。金相磨拋機（全自動）環境溫度：5-40℃，水壓：1-10bar/0.1-1Mp。

金相磨拋機：在金相實驗室，金相試樣的制備過程中，試樣的預磨、拋光研磨是多道必不可少的程序，本機的集污盤和罩采用ABS材料整體制作，是具有外形新穎美觀的產品。本機是采用PLC控制的金相試樣磨拋機，磨盤100-1000無級調速，觸摸屏顯示并控制磨盤轉速，電機為直流無刷電機，電機無需更換電刷，使用時間長，具有磁性盤設計，全系列支持快速換盤系統，使用彈性佳，搭配自動研磨裝置，能代替手工進行磨拋的各道工序，可定時，設定磨頭轉速，可提高試樣的磨拋質量和制作效率，是比較理想的金相制樣設備。本機可適應各種材料的試樣制備。該機的拋盤直徑較大。拋盤的轉速操作，噪音低，操作方便，外形美觀，使用安全，是金相試樣設備。金相磨拋機適用于巖相、礦物、陶瓷、玻璃、有色金屬及其他硅酸鹽等材料。佛山雙盤自動金相磨拋機源頭廠家

金相磨拋機（全自動）磨頭轉速：30-150r/min。佛山雙盤自動金相磨拋機源頭廠家

在金相試樣制備過程中，試樣的磨、拋光是必不可少的工序，試樣經過磨拋后，可獲得光亮如鏡的表面。此機器采用了變頻器調速， 可使磨拋盤的轉速在50-1000r/min之間，無極可調，通過更換金相砂紙和拋光織物可以完成試樣的磨、拋工序，展現了它的應用性。殼體采用整體吸塑，外觀新穎，具有轉動平穩、噪聲小、操作方便、工作效率高等特點，并自帶冷卻裝置，可以在磨拋時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織。適用于工廠、大專院校、科研單位的金相試驗室，是金相試欄麼拋光的設備。佛山雙盤自動金相磨拋機源頭廠家