納米氮化鋁粉體主要用途：制造高性能陶瓷器件:制造集成電路基板，電子器件，光學器件，散熱器，高溫紺塢。制備金屬基及高分子基復合材料:特別是在高溫密封膠粘劑和電子封裝材料中有極好的應用前景。納米無機陶瓷車用潤滑油及抗磨劑﹔納米陶瓷機油中的納米氮化鋁陶瓷粒子隨潤滑油作用于發動機內部的摩擦副金屬表面，在高溫和極壓的作用下被，并牢固滲嵌到金屬表面凹痕和微孔中，修復受損表面，形成納米陶瓷保護膜。因為這層膜的隔離作用，從而極大的降低摩擦力，將運動機件間的摩擦降至近乎零，通過改善潤滑，可降低摩擦系數70%以上，提高抗磨能力300%以上，降低磨損80%以上，可延長機械零件壽命3倍以上，減少停工，降低維修成本，延長大修期一倍以上，節能5%~30%,提高設備輸出功率15%-40%，其添加量為萬分之二。影響氮化鋁陶瓷熱導率的主要因素有晶格的氧含量、致密度、顯微結構、粉體純度等。寧波高導熱氧化鋁廠家

隨著電子和光電行業蓬勃發展，電子產品的功能越發，同時體積也越來越小，使集成電路(IC)和電子系統在半導體工業上也朝向高集成密度以及高功能化的方向發展。目前，封裝基板材料主要采用氧化鋁陶瓷或高分子材料，但隨著對電子零件的承載基板的要求越來越嚴格，它們的熱導率并不能滿足行業的需求，而AlN因具有良好的物理和化學性能逐步成了封裝材料的首要選擇。氮化鋁陶瓷室溫比較強度高，且不易受溫度變化影響，同時熱導率高（比氧化鋁高5-8倍）且熱膨脹系數低，所以耐熱沖擊好，能耐2200℃的極熱，是一種優良的耐熱沖材料及熱交換材料，作為熱交換材料，可望應用于燃氣輪機的熱交換器上。寧波高導熱氧化鋁廠家砷化鎵表面的氮化鋁涂層，能保護它在退火時免受離子的注入。

氮化鋁陶瓷基片制造并非易事：氮化鋁的很大特點是熱膨脹系數（CTE）與半導體硅（Si）相當，且熱導率高，理論上氮化鋁熱導率可達到320W/(m·K)，但成本很高。由于制備氮化鋁陶瓷的重點原料氮化鋁粉體制備工藝復雜、能耗高、周期長、價格昂貴，國內的氮化鋁粉體很大程度上依賴進口。原料的批次穩定性、成本也成為國內氮化鋁陶瓷基片材料制造的瓶頸。氮化鋁基板生產呈地區集中狀態，美國、日本、德國等國家和地區是全球很主要的電子元件生產和研發中心，在氮化鋁陶瓷基片的研究已遠早于國內。日本已有較多企業研發和生產氮化鋁陶瓷基片，目前是全球很大的氮化鋁陶瓷基片生產國。

AlN屬于共價化合物，自擴散系數小，燒結致密化非常困難，通常需要使用稀土金屬氧化物和堿土金屬氧化物作為燒結助劑來促進燒結，但仍需要1800℃以上的燒結溫度。近幾年，出于減少能耗、降低成本以及實現AlN與金屬漿料的共同燒結等因素考慮，人們開始注意AlN低溫燒結技術的研究。所謂低溫燒結是個相對概念，指的是將AlN的燒結溫度降低到1600℃至1700℃之間實現致密度高的燒結。一般認為，AlN表層的氧是在高溫下才開始向其晶格內部擴散。因此，低溫燒結另外一個潛在的有利影響是可以延緩高溫燒結時表層氧向AlN晶格內部擴散，增進后續熱處理過程中的排氧效果，有利于制備出高熱導率的陶瓷材料。低溫燒結的關鍵技術是選擇有效的燒結助劑。氮化鋁陶瓷基片是理想的大規模集成電路散熱基板和封裝材料。

氮化鋁陶瓷具有優良的絕緣性、導熱性、耐高溫性、耐腐蝕性以及與硅的熱膨脹系數相匹配等優點，成為新一代大規模集成電路、半導體模塊電路及大功率器件的理想散熱和封裝材料。成型工藝是陶瓷制備的關鍵技術，是提高產品性能和降低生產成本的重要環節之一。隨著工業技術的高速發展，傳統的成型方法已難以滿足人們對陶瓷材料在性能和形狀方面的要求。陶瓷的濕法成型近年來成為研究的重點，因為濕法成型具有工藝簡單、生產效率高、成本低和可制備復雜形狀制品等優點，易于工業化推廣。濕法成型包括流延成型、注漿成型、注射成型和注凝成型等。氮化鋁陶瓷作為耐火材料應用于純鐵、鋁以及鋁合金的熔煉。寧波高導熱氧化鋁廠家

氮化鋁要以熱壓及焊接式才可制造出工業級的物料。寧波高導熱氧化鋁廠家

粉末注射成型是將現代塑料注射成型技術引入粉末冶金領域而形成的一門新型近終形成型技術。據中國粉體網編輯了解，該技術的很大特點是可以直接制備出復雜形狀的零件，而且由于是流態充模，基本上沒有模壁摩擦，成型坯的密度均勻，尺寸精度高。因此，國際上普遍認為該技術的發展將會導致零部件成型與加工技術的一場**，被譽為“21世紀的零部件成型技術”。粘結劑是注射成型技術的重點，首先，粘結劑是粉末的載體，它在很大程度上決定喂料注射成型的流變性能和注射性能；其次，一種良好的粘結劑還必須具有維形作用，即保證樣品從注射完成到脫脂結束都能維持形狀而不發生變化。為了同時滿足上述要求，粘結劑一般由多種有機物組元組成。寧波高導熱氧化鋁廠家

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