odeunemplazamientopeligrosoaotronopeligroso,asícomoenlasentradasysalidasdelasenvolventesmetálicasdeequiposeléctricosquepuedanproducirarcosotemperaturaselevadas,cuandoseempleentubosdeacero,sedeberáevitarelpasodegasesovaporesinflamables,paraelloserealizaráelselladodeestospasosmediantelautilizacióóndelmaterialeléctricoserárealizadadeacuerdoconelartíéctricos,serealizarádeacuerdoconelmododeproteccióéctrico,paraentradasdecablesnoutilizados,deberáncerrarsemediantepiezasacordes,alobjetodemantenerelmododeproteccióóndefuerzaserealizarádesdeuncuadrodedistribución,compuestoporuninterruptorautomáticodeproteccióngeneral,undiferencialmásunaseriedesalidasseparadasporcadareceptor,cadaunaconproteccióóngeneralseinstalaráóngeneraldelasinstalacionessellevaráacaboconlamáximaintensidadyamplitudqueseaposible,suplementadosporaparatoslocalesenlospuntosqueserequieraobservacióónseestablecerádemaneraqueprocurelamayorseguridaddelpersonalquetrabajedenoche。蘇州BOE蝕刻液的價格。浙江BOE蝕刻液推薦貨源

    本發明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑，來改善磷酸的浸潤性和表面張力，使之均勻蝕刻氮化硅。背景技術：氮化硅是一種具有很高的化學穩定性的絕緣材料，氫氟酸和熱磷酸能對氮化硅進行緩慢地腐蝕。在半導體制造工藝中，一般是采用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻，一直到了90nm的制程也是采用熱磷酸來蝕刻氮化硅。但隨著半導體制程的飛速發展，器件的特征尺寸越來越小，集成度越來越高，對制造工藝中的各工藝節點要求也越來越高，如蝕刻工藝中對蝕刻后晶圓表面的均勻性、蝕刻殘留、下層薄膜的選擇性等都有要求。在使用熱磷酸對氮化硅進行蝕刻時，晶圓表面會出現不均勻的現象，體現于在蝕刻前后進行相同位置取點的厚度測量時，檢測點之間蝕刻前后的厚度差值存在明顯差異。為了解決氮化硅蝕刻不均勻的問題，通過在磷酸中添加醇醚類和表面活性劑可以實現氮化硅層的均勻蝕刻。技術實現要素：本發明所要解決的技術問題是提供一種能均勻蝕刻氮化硅層的蝕刻液。本發明涉及一種提高氮化硅蝕刻均勻性的酸性蝕刻液，所述蝕刻液的組成包括：占蝕刻液總重量≥88％的磷酸、％的醇醚類、％的表面活性劑。進一步地，本發明涉及上述蝕刻液。湖南介紹BOE蝕刻液按需定制如何挑選一款適合自己公司的BOE蝕刻液？

    添加劑為二乙二醇單甲醚、三乙二醇乙醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，添加量分別為％、％、％。實施例6本發明的實施例按蝕刻液總質量為400g進行配制，先稱取濃度為85％的磷酸，然后稱取添加劑加入磷酸中，該實施例中所含成分及各成分稱取的質量顯示于表1。添加劑為丙二醇丁醚、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、月桂酰氨乙基硫酸鈉，添加量分別為總質量的％、％、％。對照例對照例中所含成分顯示于表1，并采用與實施例相同的方法進行處理。對照例1為純磷酸，總質量為400g。對照例2為磷酸、丙二醇丁醚，其中丙二醇丁醚的添加量為總質量的％。對照例3為磷酸、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p，其中脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p的添加量為總質量的％。結果如表2所示，與對照例蝕刻液相比，實施例蝕刻液有更低的表面張力和接觸角，并且氮化硅層蝕刻后顯示出良好的均勻性。表1表2顯然，上述實施例和對照例是為了清楚地說明所作的實例，而并非對實施方式的限制。對于所屬領域的技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動，這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而因此所引申的顯而易見的變化或變動仍處于本發明創造的保護范圍之內。

    gradodelafuentedeescapeeinfluenciadelaventilación)laextensióndecadazonapeligrosaobedeceráalossiguientescriteriosyconsideraciones:)Isletasdereposamientoodistribucióóndeservicioquepuedenconsiderarsecomodeficientementeventiladosdebidoalaenvolventemetáácomozona1porqueenélunaatmósferadegasexplosivaseprevépuedaestarpresentedeunaformaperiódicauocasionalmenteduranteelfuncionamientonormalyademásnotieneunabuenaventilacióósferaexplosivanoestápresenteenfuncionamientonormalysiloestáserádeformapocofrecuenteydecortaduración,oaundándoselascondicionesanteriores,elgradodeventilaciónesóóndecadazonaanteriormenteindicadapuedelimitarsemediantelautilizaciónde?barrerasdevapor?queimpidanelpasodegases,vaporesolíóndelossurtidoresydeladisposicióndeloscabezaleselectrónicoslasbarrerasseclasificanendostipos:1.oBarrerasdevaportipo1.。選擇BOE蝕刻液，實現高精度蝕刻效果。

    這是除去固體顆粒、電子流、水、或者或多或少具有極性的油脂污染的要求。在精細清洗中，經常存在裝有凹槽、肋條或盲孔的非常復雜的部件，必須用溶劑對其進行潤濕，以使溶劑在這些難洗位置發揮作用。氟化溶劑來自提供表面的可能性的潤濕的溶劑類型，其中，所述表面的可能性的潤濕以非常低的表面張力表示(例如，相對于，HCFC141b為)。高潤濕的另一優點是得到基底的較快干燥。在幾乎相同的分子量下，氟化溶劑具有較低的沸點和較高的蒸氣壓。因此，HCFC141b在32°C下沸騰而氯仿在61°C下沸騰。這兩種性質(低沸點和高蒸氣壓)有利于這些溶劑在利用蒸氣相操作的常規工業機器中的應用，使得能夠進行部件的漂洗和干燥，而且使得被連續蒸餾的溶劑能夠再生。這些機器裝有用于通過冷凝而使蒸氣在盤管上冷卻的大功率(heavy-duty)系統，這些機器的操作方法使得所用高蒸氣壓的缺點小化。工業家們期望可用于他們的現有機器存貨的替代解決方案。此外，氫氟烴地用于制冷和傳熱過程。本發明提供具有低GWP且具有可生物降解的優點的組合物。根據本發明的組合物含甲基四氫呋喃和至少一種式C4F90R的九氟丁基烷基醚，其中R具有14個碳原子的線型或支化的飽和烷基鏈。有利地。蘇州博洋生產BOE蝕刻液。安徽技術密集BOE蝕刻液主要作用

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    可通過蒸發或蒸餾或者通過對比給定溫度下的泡點或的蒸氣壓來實施共沸型化合物的確定。在工業應用的情況下使用共沸物是特別有利的，以使組合物再生，例如當其飽和有污染物的時候。簡單蒸餾可回收初的共沸組合物，而沒有各組分的任何分餾。而且，2-甲基四氫呋喃(2-MeTHF)具有得自可再生原料(例如得自纖維素材料的糠醛)的優點。因此，半纖維素多糖是含有5個碳原子的基于糖的聚合物。當在硫酸的存在下加熱半纖維素時，得到戊糖(含有5個碳原子的糖)，例如木糖。當進行木糖的熱脫水時，該木糖轉化為糠醛。除了低的GWP和它們的可生物降解性之外，根據本發明的一些組合物是不可燃的(根據ASTMD3828標準，閉杯閃點高于55°C)并且特別適合作為清洗溶劑或作為用于加熱和冷卻應用的制冷劑。它們也可用作發泡劑。實驗部分實施例1通過使用沸點測定技術測量液體混合物的沸點。首先，將適量的九氟丁基甲基醚裝料到沸點測定儀中，然后，使其沸騰。在達到平衡狀態之后，記錄在大氣壓下的沸點。然后，將甲基四氫呋喃的等分試樣引入到所述沸點測定儀中并且在已達到平衡狀態之后再次記錄溫度。表I給出九氟丁基甲基醚和甲基四氫呋喃的各種混合物在。浙江BOE蝕刻液推薦貨源