微泰半導體閘閥的特點，首先介紹一下起三重保護的保護環機能，采用鋁質材料減少重量，并提高保護環的內部粗糙度，防止工程副產物堆積黏附。提升保護環內部流速設計，保護環逐步收窄，提升流速，防止粉塵黏附。采用三元系O型圈，保證保護環驅動穩定（保證30萬次驅動）。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司。微泰，高壓閘閥能應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD。手動閘閥楔式閘閥

微泰半導體閘閥具有諸多特點：其閥門驅動部分的所有滾子和軸承都經過精心防護處理，形成屏蔽和保護環（Shield Blocker 和 Protection Ring），通過三重預防方式有效切斷粉末（Powder），從而延長閥門驅動及使用壽命。該閘閥采用的三重預防驅動方式中的 Shield 功能，能夠出色地防止氣體和粉末侵入閥體內部，同時具備三重保護驅動保護環，可延長 GV 壽命的 Shield 方法，并已供應給海外半導體 T 公司、M 公司和 I 公司的 Utility 設備。此外，擋板與閥體之間的距離小于 1mm，能夠強力阻擋內部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板采用 1.5t AL 材料制成，充分考慮了其復原力，并通過 Viton 粉末熱壓工藝制成。而三重保護保護環的主要功能則包括：AL 材料的重量減輕和保護環內部照明的改善、保護環內部流速的增加以及三元環的應用確保了驅動性能的提升。多定位閘閥AKT真空閘閥是真空系統中用于控制氣體進出真空室的機械裝置。

微泰，加熱閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*使用加熱套或內部加熱器加熱*加熱控制器*應用:去除粉末/氣體設備。加熱閘閥規格如下：驅動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統。I型輸送閥，-閘門動作時無震動或沖擊-通過饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染，確保高耐用性-采用LM導軌和單鏈路（LM-guide&Single Link）結構/小齒輪驅動方式，使其具有簡單的運動、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式（Jaw type）和夾式（Clamp type）。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。微泰高壓閘閥的特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。

微泰的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體 PVD CVD 設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統，起著將工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的關鍵作用，就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時造成的真空壓力變化，使腔室內的真空壓力得以穩定維持。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產品范圍包括多種尺寸規格，如 32 x 222、46 x 236、50 x 336、56 x 500 等。維護前使用周期可達 100 萬次，響應時間為 2 秒，并可根據客戶要求定制法蘭。這些轉移閥產品有鋁制或不銹鋼制兩種，用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導體系統和隔離工藝室。I 型的特點是葉片能在垂直方向上快速移動，保證腔室壓力完美維持，它采用具有 LM 導向系統和單連桿的內部機構，確保高耐用性和長壽命。L 型轉移閥產品則設計緊湊，易于維護。I 型和 L 型轉移閥在閘門開啟和關閉過程中能極大限度地減少振動，且對溫度變化非常穩定，能確保較長的使用壽命。此外，它們即使長時間使用，產生的顆粒也很少，能避免晶圓缺陷和主器件污染。微泰不斷創新，在壓力控制和控制閥制造方面持續努力，專注于真空閘閥的研發。微泰閘閥可替代HVA閘閥、VAT閘閥。大型閘閥Global Foundries

閘閥通過閥座和閘板接觸進行密封，通常密封面會堆焊金屬材料以增加耐磨性。手動閘閥楔式閘閥

微泰半導體閘閥與其他類型閘閥相比，具有以下一些優勢：1. 高精度控制：能更精確地調節流體流量。2. 適應半導體環境：對溫度、真空等條件有更好的適應性。3. 低顆粒產生：減少對晶圓等的污染。4. 長壽命和可靠性：確保穩定運行，減少維護成本。5. 多功能應用：可適用于多種半導體工藝設備。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。手動閘閥楔式閘閥