微泰,傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉換閥、輸送閥、轉移閥應用于晶圓加工,半導體加工,可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設計? 使用維修配件工具包易于維護? 應用:半導體系統中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉移閥規格如下:閘門密封類型:傳輸閥 (I-MOTION)、右動轉換閥、驅動方式:氣動、法蘭尺寸(內徑) 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式:焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、工作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差:≤ 30 mbar、開啟時壓差: ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼:< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁:< 1×10 -5 mbar ?/秒、維護前可用次數: ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環保科技有限公司。用真空閘閥時,應考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環速度和維護要求等因素。低真空閘閥插板閥
微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥蝶閥Butterfly Valve。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構,通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現精確的壓力控制和低真空環境。例如半導體和工業過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用。控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發)、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。超大型真空閘閥HV GATE VALVE控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。
微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,三重防護閘閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。有-屏蔽閘閥:防止氣體和粉末進入閥內的隔離閥,-三重防護閘閥:屏蔽1和2+保護環的3重隔離系統,還有步進電機閘閥和鋁閘閥,屏蔽門閥:產品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次?響應時間:0.2秒~3秒;三級預防閘閥,三重防護閘閥:產品范圍:4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次?包括屏蔽功能;步進電機閘閥:產品范圍:2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數:25萬次?包括屏蔽功能;步進電機閘閥;鋁閘閥:產品范圍:2.5~12英寸?高壓氣動?維護前可用次數:10萬次?響應時間:0.2秒~3秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司。
微泰,三重防護閘閥、三防閘閥,應用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器(1CH ~ 4CH)? 應用:半導體生產線中粉末和氣體等副產品的處理,防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規格如下:操作:氣動、法蘭尺寸(內徑) 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO,KF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型環/Kalrez O型環、閥蓋密封:Viton O型圈、響應時間:≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍: 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差; 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環保科技有限公司。閘閥的結構緊湊,閥門剛性好,通道流暢,流阻數小,密封面采用不銹鋼和硬質合金,使用壽命長。
微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position 其特點是1,全開和關閉位置使用帶有位置發射器的氣動電磁閥進行控制;2,所有位置控制都由控制器進行操作。1)控制類型-全開:高速閘門全開操作-全閉:高速閘門全閉操作-位置(POS.)控制:將閘門移動到設定的位置值;2)操作時間-完全打開?完全關閉:<2秒(取決于速度控制器設置)-位置(POS。)控制: 0%?100%工作,<MAX18秒(偏差: < ±0.5%)。微泰氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。微泰控制系統閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門。控制系統閥門起到調節腔內壓力的作用。超高真空閘閥閘板閥
閘閥體內設一個與介質流向成垂直方向的平面閘板,靠這一閘板的升降來開啟或關閉介質的通路。低真空閘閥插板閥
微泰半導體閘閥具有獨特的特點:其插板閥主滑閥采用球機構方式,并且在量產工藝設備上經過了性能驗證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,陶瓷與金屬接觸驅動時不會產生顆粒。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來西亞的英菲尼亞半導體,日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨,且品質得到認可,同時也完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅動會產生大量顆粒不同,微泰半導體閘閥采用鋼陶瓷球,在與金屬摩擦時不會損壞,且金屬與陶瓷球之間不會產生 Particle。半永久板簧(SUS 鋼板)的應用確保了閥門驅動的同步性,同時還采用了固定球導向器和鋼陶瓷。微泰半導體閘閥廣泛應用于 Evaporation(蒸發)、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外,該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。低真空閘閥插板閥