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濺射閘閥閘板閥

來源: 發布時間:2024年08月11日

微泰,超高壓閘閥應用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? 蝕刻? Diffusion?CVD等設備上。期特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:研發和工業中的UHV隔離。高壓閘閥規格如下:驅動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管(AM350或STS316L)、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封:銅墊圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。這些真空閥可以手動、氣動或電子方式驅動,從而可以根據具體應用進行多功能控制。濺射閘閥閘板閥

閘閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統。采用L型輸送閥L-motion防止產生微粒(Particle),無需從設備上拆卸閥門,即可更換閘門和O形圈。大量采用缸套運動導軌Liner (motion guide),實現高精度、高耐用性.微泰晶圓輸送閥L型輸送閥L-motion,Transfer Valve,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。濺射閘閥閘板閥在機組的給水、主汽、凝結水、抽汽、空氣、循環冷卻水、軸冷水等系統中,均安裝有許多閘閥。

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微泰半導體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當閘板升起時,閘閥打開,允許流體通過;當閘板降下時,閘閥關閉,阻止流體通過。在具體工作中,它利用各種機構和設計來實現精確的控制和可靠的密封,以滿足半導體設備中對工藝控制的要求。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發)、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。

微泰,高壓閘閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。高壓閘閥規格如下:驅動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數:250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環??萍加邢薰?。微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,三重防護閘閥應用于? Evaporation(蒸發)等設備。

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微泰,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。此外,它極大限度地減少了由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化,使腔室內的真空壓力得以維持。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥分為兩種類型:I型和L型? Product Range : 32 x 222 / 46 x 236 ,50 x 336 / 56 x 500 ,? Cycles of first service : 1,000,000 ? Response Time : 2sec ? Customer Specified Flanges ,轉移閥產品由鋁或不銹鋼制成,用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統和隔離工藝室。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動,確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導向系統和單連桿的內部機構,保證高耐用性和長壽命。二、L型轉移閥。L型轉移閥產品由鋁或不銹鋼制造,其特點是設計緊湊,易于維護。I型和L型轉移閥在在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動,并且對溫度變化非常穩定,確保了較長的使用壽命。此外,即使長時間使用柵極,它們產生的顆粒也很少,從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創新,在開發先進的壓力控制和控制閥制造專業從事真空閘閥不懈努力。微泰閘閥可替代HVA閘閥、VAT閘閥。鋁閘閥氣動閥

真空閘閥通過使用滑動閘門機構來控制氣體的通過。濺射閘閥閘板閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,蝶閥,Butterfly Valve產品范圍:DN40 ~ 50 -壓力控制-使用步進電機- Product Range : DN40 ~ 50- Pressure Controlled- Using Stepper Motor,- Compatible with VAT Butterfly Control Valve, series61.2 - Application Process : PVD, CVD, Etching, Diffusion-使用步進電機和控制器執行驅動。-通過步進電機/控制器精確定位,確保精確的壓力控制。-兼容VAT蝶閥控制器,系列61.2,-應用工藝: PVD,CVD,蝕刻,擴散。微泰蝶閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。濺射閘閥閘板閥

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