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高壓閘閥蝶形控制閥

來源: 發布時間:2024年09月17日

微泰,三重防護閘閥、三防閘閥,應用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器(1CH ~ 4CH)? 應用:半導體生產線中粉末和氣體等副產品的處理,防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規格如下:操作:氣動、法蘭尺寸(內徑) 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO,KF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型環/Kalrez O型環、閥蓋密封:Viton O型圈、響應時間:≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍: 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差; 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環保科技有限公司。真空閘閥廣泛應用于各個行業,包括半導體制造、研發、分析類儀器和真空鍍膜。高壓閘閥蝶形控制閥

閘閥

微泰,控制系統閘閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是? 主體材質:不銹鋼? 緊湊型設計? 帶步進電機的集成壓力控制器? 應用:需要壓力控制和隔離的地方。控制系統閘閥規格如下:法蘭尺寸(ID):1.5英寸~ 10英寸、材料:閥體(STS304)/機構STS304、STS420、饋通:旋轉饋通、執行器:步進電機、氦泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1.4 bar、閘門上的壓差≤1.4bar、維護前可用次數:100,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤35°C、安裝位置:任意、接口RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環保科技有限公司。韓國進口閘閥角控制閥閘閥流動阻力小。閥體內部介質通道是直通的,介質成直線流動,流動阻力小。

高壓閘閥蝶形控制閥,閘閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve,-產品范圍:2.5“~10”-壓力控制-使用步進電機Stepper Motor GV,- Product Range : 2.5” ~ 10”- Pressure Controlled- Using Stepper Motor,用步進電機/控制器操作閥門-通過步進電機/控制器精確控制閥門的壓力-根據產品的不同,控制器可以安裝在客戶需要的地方,微泰,步進電機插板閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。微泰步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。

微泰,三(多)位閘閥、三位閘閥、多位閘閥應用于? 蒸發?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴散?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*3個位置功能-閥門打開,閥門關閉,第3位置*設備可通過連接到閥門的9 Pin D-Sub來讀取閥門狀態*手動和氣動閥門組合*應用:需要壓力控制的任何其他過程*應用:需要壓力控制的地方。三位閘閥、多位閘閥規格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸:2.5英寸~ 12英寸、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績真空閘閥的設計具有獨特的特征。它們具有堅固的結構,通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。

高壓閘閥蝶形控制閥,閘閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統。采用L型輸送閥L-motion防止產生微粒(Particle),無需從設備上拆卸閥門,即可更換閘門和O形圈。大量采用缸套運動導軌Liner (motion guide),實現高精度、高耐用性.微泰晶圓輸送閥L型輸送閥L-motion,Transfer Valve,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。高壓閘閥結構簡單,制造和維修比較方便。工作行程小,啟閉時間短。密封性好,密封面間磨擦力小,壽命較長。韓國技術閘閥TRANSFER VALVE

高壓閘閥只許介質單向流動,安裝時有方向性。它的結構長度大于閘閥,同時流體阻力大。高壓閘閥蝶形控制閥

微泰控制系統閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門。控制系統閥門起到調節腔內壓力的作用,通過控制系統自動調節閘板的開啟和關閉。精確控制腔內壓力的閥門分為三類:控制系統閘閥、蝶閥、多定位閘閥。控制系統和蝶閥使用步進電機操作,而多定位閘閥使用氣動控制操作。一、控制系統閘閥。控制系統閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用。控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構,通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現精確的壓力控制和低真空環境。例如半導體和工業過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能,以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。高壓閘閥蝶形控制閥

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