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PVD閘閥Global Foundries

來源: 發布時間:2024年09月23日

微泰,蝶閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶹AT閘閥。微泰蝶閥其特點是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設計? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護? 應用:半導體和工業過程的壓力控制。蝶閥規格如下:法蘭尺寸(內徑):DN40、DN50、饋通:旋轉饋通、閥門密封:FKM(VITON)、執行器:步進電機、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1200 mbar 、開啟壓差:≤ 30 mbar、開啟壓差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、維護前可用次數:250,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料:閥體STS304/機制STS304、安裝位置:任意、接口:RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環??萍加邢薰?。真空閘閥由一個滑動門或板組成,可以移動以阻止或允許通過真空閥體,從而有效地將腔室與外部環境隔離。PVD閘閥Global Foundries

閘閥

微泰,超高壓閘閥應用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? 蝕刻? Diffusion?CVD等設備上。期特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:研發和工業中的UHV隔離。高壓閘閥規格如下:驅動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管(AM350或STS316L)、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封:銅墊圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績??刂崎l閥插板閥為特定的真空系統和工藝選擇適當尺寸和類型的真空閘閥對于確保高效運行和可靠的真空完整性至關重要。

PVD閘閥Global Foundries,閘閥

微泰,鋁閘閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。期特點是*不論什么工藝的設備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應用:隔離泵。鋁閘閥規格如下:驅動方式:手動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 10英寸、閥體:AL6061 (Anodizing)、機械裝置:AL6061 (Anodizing)、閥門:O型圈(VITON)、真空密封:O型圈(VITON)、響應時間≤ 3 sec、驅動器:氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍:< 1×10-10 mbar ?/sec、開始時的壓差:≤ 30 mbar、初次維護前可用次數100,000次、閥體溫度≤ 120 °執行機構溫度≤ 60 °C、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績??商娲鶹AT閥門。

微泰,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。此外,它極大限度地減少了由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化,使腔室內的真空壓力得以維持。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥分為兩種類型:I型和L型? Product Range : 32 x 222 / 46 x 236 ,50 x 336 / 56 x 500 ,? Cycles of first service : 1,000,000 ? Response Time : 2sec ? Customer Specified Flanges ,轉移閥產品由鋁或不銹鋼制成,用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統和隔離工藝室。本型的特點是葉片在垂直方向上快速移動,確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導向系統和單連桿的內部機構,保證高耐用性和長壽命。二、L型轉移閥。L型轉移閥產品由鋁或不銹鋼制造,其特點是設計緊湊,易于維護。I型和L型轉移閥在在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動,并且對溫度變化非常穩定,確保了較長的使用壽命。此外,即使長時間使用柵極,它們產生的顆粒也很少,從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創新,在開發先進的壓力控制和控制閥制造專業從事真空閘閥不懈努力。閘閥形體簡單,結構長度短,制造工藝性好,適用范圍廣。

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微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position 其特點是1,全開和關閉位置使用帶有位置發射器的氣動電磁閥進行控制;2,所有位置控制都由控制器進行操作。1)控制類型-全開:高速閘門全開操作-全閉:高速閘門全閉操作-位置(POS.)控制:將閘門移動到設定的位置值;2)操作時間-完全打開?完全關閉:<2秒(取決于速度控制器設置)-位置(POS。)控制: 0%?100%工作,<MAX18秒(偏差: < ±0.5%)。微泰氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。閘閥多應用于石油、天然氣等輸送管線上,在半導體加工工程設備上也多用閘閥。PVD閘閥Global Foundries

控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。PVD閘閥Global Foundries

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,蝶閥,Butterfly Valve產品范圍:DN40 ~ 50 -壓力控制-使用步進電機- Product Range : DN40 ~ 50- Pressure Controlled- Using Stepper Motor,- Compatible with VAT Butterfly Control Valve, series61.2 - Application Process : PVD, CVD, Etching, Diffusion-使用步進電機和控制器執行驅動。-通過步進電機/控制器精確定位,確保精確的壓力控制。-兼容VAT蝶閥控制器,系列61.2,-應用工藝: PVD,CVD,蝕刻,擴散。微泰蝶閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。PVD閘閥Global Foundries

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