微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥Heating gate valve，加熱插板閥，加熱閘閥，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過控制器設置溫度）-規格：適用雙金屬（達到200度時，斷電后溫度下降后重新啟動），應用于去除粉末/氣體設備。微泰，加熱閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。加熱閘閥規格如下：驅動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數：200,000次、、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。真空閘閥的密封裝置確保關閉時的高真空完整性，防止泄漏并維持腔室內的真空壓力。閘閥Global Foundries

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，插板閥，氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥-按產品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸，ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現有手動閘閥的鎖定功能（Exist Manual GV of Locking Function）。微泰氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。超大型真空閘閥UMC真空閘閥屬于真空隔離閥類別。但是，它也有可用于控制氣流。

微泰，定制大型轉移閥，定制大型輸送閥，?應用：大型涂層系統。定制大型轉移閥，定制大型輸送閥規格如下：驅動方式：氣動、法蘭尺寸：（內徑）80×500、（內徑）100×400、（內徑）200×1800、（內徑）650×1050等法蘭類型：定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門上的壓差≤1000 mbar、泄漏率：泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護前可用次數：10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：材料：不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6 ~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環保科技有限公司。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。這節介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥，加熱器插入閘閥：產品范圍：2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：20萬次?響應時間：0.2秒~3秒；客戶指定法蘭，加熱溫度：450℃；蝶形閥；蝶閥：產品范圍：DN40、DN50隔離?泄漏率：1.0E-9mbar·l/秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司關閉真空閥涉及將閘門移動穿過流路以形成密封。

微泰半導體閘閥具有諸多特點：首先，它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導體，日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨，且品質得到認可，同時完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。其次，該閘閥采用陶瓷球機構，具有良好的抗沖擊和震動性能，保證可使用 25 萬次，且檢修方便，維護成本較低。它無 Particle 產生，采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產生。此外，它還具有屏蔽保護功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內，壽命為半永久性。其保護環設計也很獨特，Protecrion Ring 通過流速上升設計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。閘閥高度大，啟閉時間長。閘板的啟閉行程較大，升降是通過螺桿進行的。超大型真空閘閥UMC

閘閥按閘板結構形式分為單閘板和雙閘板兩種。閘閥Global Foundries

微泰的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體 PVD CVD 設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統，起著將工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的關鍵作用，就像一條溝槽。這些閥門能極大程度地減少閘板開閉時造成的真空壓力變化，使腔室內的真空壓力得以穩定維持。負責門控半導體晶圓轉移的傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥分為 I 型和 L 型兩種。其產品范圍包括多種尺寸規格，如 32 x 222、46 x 236、50 x 336、56 x 500 等。維護前使用周期可達 100 萬次，響應時間為 2 秒，并可根據客戶要求定制法蘭。這些轉移閥產品有鋁制或不銹鋼制兩種，用于傳輸晶圓小于 450 毫米的半導體系統和隔離工藝室。I 型的特點是葉片能在垂直方向上快速移動，保證腔室壓力完美維持，它采用具有 LM 導向系統和單連桿的內部機構，確保高耐用性和長壽命。L 型轉移閥產品則設計緊湊，易于維護。I 型和 L 型轉移閥在閘門開啟和關閉過程中能極大限度地減少振動，且對溫度變化非常穩定，能確保較長的使用壽命。此外，它們即使長時間使用，產生的顆粒也很少，能避免晶圓缺陷和主器件污染。微泰不斷創新，在壓力控制和控制閥制造方面持續努力，專注于真空閘閥的研發。閘閥Global Foundries