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高壓閘閥I型轉移閥

來源: 發布時間:2024年10月04日

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position 其特點是1,全開和關閉位置使用帶有位置發射器的氣動電磁閥進行控制;2,所有位置控制都由控制器進行操作。1)控制類型-全開:高速閘門全開操作-全閉:高速閘門全閉操作-位置(POS.)控制:將閘門移動到設定的位置值;2)操作時間-完全打開?完全關閉:<2秒(取決于速度控制器設置)-位置(POS。)控制: 0%?100%工作,<MAX18秒(偏差: < ±0.5%)。微泰氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。閘閥按閘板結構形式分為單閘板和雙閘板兩種。高壓閘閥I型轉移閥

閘閥

微泰控制系統閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門。控制系統閥門起到調節腔內壓力的作用,通過控制系統自動調節閘板的開啟和關閉。精確控制腔內壓力的閥門分為三類:控制系統閘閥、蝶閥、多定位閘閥。控制系統和蝶閥使用步進電機操作,而多定位閘閥使用氣動控制操作。一、控制系統閘閥。控制系統閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用。控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構,通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現精確的壓力控制和低真空環境。例如半導體和工業過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能,以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。韓國技術閘閥角控制閥微泰高壓閘閥的特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。

高壓閘閥I型轉移閥,閘閥

微泰半導體閘閥的工作原理主要是通過閘板的升降來控制流體的通斷。當閘板升起時,閘閥打開,允許流體通過;當閘板降下時,閘閥關閉,阻止流體通過。在具體工作中,它利用各種機構和設計來實現精確的控制和可靠的密封,以滿足半導體設備中對工藝控制的要求。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發)、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。

微泰,高壓閘閥應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。高壓閘閥規格如下:驅動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數:250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環保科技有限公司。真空閘閥的設計具有獨特的特征。它們具有堅固的結構,通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。

高壓閘閥I型轉移閥,閘閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,有氣動多位置閘閥(氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position)、氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥,蝶閥,Butterfly Valve,步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),鋁閘閥(AL Gate Valve),三重防護閘閥,應用于? Evaporation(蒸發)? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。真空閘閥通過使用滑動閘門機構來控制氣體的通過。韓國技術閘閥TRANSFER VALVE

閘閥的結構比較簡單,一般由閥體、閥座、閥桿、閘板、閥蓋、密封圈幾部分組成。高壓閘閥I型轉移閥

微泰,定制大型轉移閥,定制大型輸送閥,?應用:大型涂層系統。定制大型轉移閥,定制大型輸送閥規格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸:(內徑)80×500、(內徑)100×400、(內徑)200×1800、(內徑)650×1050等法蘭類型:定制、饋通焊接波紋管/O形密封圈、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門上的壓差≤1000 mbar、泄漏率:泄漏率< 5×10 -9 Mbar/秒、維護前可用次數:10,000 ~ 200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:材料:不銹鋼304、A5083~A7075、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6 ~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,上海安宇泰環保科技有限公司。高壓閘閥I型轉移閥

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