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超真空閘閥手動閥

來源: 發布時間:2024年10月07日

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能,以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態,并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領域。采用手動調節控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開啟和關閉,以調節壓力。微泰半導體多定位閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發)、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。微泰控制系統閥門是安裝在半導體CVD設備中的主要閥門。控制系統閥門起到調節腔內壓力的作用。超真空閘閥手動閥

閘閥

微泰半導體閘閥具有獨特的特點:其插板閥主滑閥采用球機構方式,并且在量產工藝設備上經過了性能驗證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,陶瓷與金屬接觸驅動時不會產生顆粒。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來西亞的英菲尼亞半導體,日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨,且品質得到認可,同時也完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅動會產生大量顆粒不同,微泰半導體閘閥采用鋼陶瓷球,在與金屬摩擦時不會損壞,且金屬與陶瓷球之間不會產生 Particle。半永久板簧(SUS 鋼板)的應用確保了閥門驅動的同步性,同時還采用了固定球導向器和鋼陶瓷。微泰半導體閘閥廣泛應用于 Evaporation(蒸發)、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外,該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。氣動閘閥手動閥真空閘閥的密封裝置確保關閉時的高真空完整性,防止泄漏并維持腔室內的真空壓力。

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微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統。采用L型輸送閥L-motion防止產生微粒(Particle),無需從設備上拆卸閥門,即可更換閘門和O形圈。大量采用缸套運動導軌Liner (motion guide),實現高精度、高耐用性.微泰晶圓輸送閥L型輸送閥L-motion,Transfer Valve,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。

微泰半導體閘閥具有諸多特點:首先,它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來西亞的英菲尼亞半導體,日本的 Micron、三星半導體等眾多設備廠批量供貨,且品質得到認可,同時完成了對半導體 Utility 設備和批量生產設備的驗證。其次,該閘閥采用陶瓷球機構,具有良好的抗沖擊和震動性能,保證可使用 25 萬次,且檢修方便,維護成本較低。它無 Particle 產生,采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產生。此外,它還具有屏蔽保護功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm,能有效防止粉末侵入閥內,壽命為半永久性。其保護環設計也很獨特,Protecrion Ring 通過流速上升設計防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發)、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環保科技有限公司提供。非金屬材料高壓閘閥有陶瓷閥門、玻璃閥門、塑料閥門。

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微泰,三(多)位閘閥、三位閘閥、多位閘閥應用于? 蒸發?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴散?CVD(化學氣相沉積)等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*3個位置功能-閥門打開,閥門關閉,第3位置*設備可通過連接到閥門的9 Pin D-Sub來讀取閥門狀態*手動和氣動閥門組合*應用:需要壓力控制的任何其他過程*應用:需要壓力控制的地方。三位閘閥、多位閘閥規格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸:2.5英寸~ 12英寸、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數:200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績閘閥多應用于石油、天然氣等輸送管線上,在半導體加工工程設備上也多用閘閥。加熱閘閥BUTTERFLY VALVE

高壓閘閥按閥桿螺紋的位置分外螺紋式、內螺紋式、法蘭、焊接等。按介質的流向分,有直通式、直流式和角式。超真空閘閥手動閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥,鋁閘閥(AL Gate Valve)-產品范圍:1.5英寸~10英寸-12英寸可生產的產品尺寸,閥體材料:鋁、氣動、緊湊設計、重量輕。閘門,閥蓋密封:Viton O-Ring使用次數:100000次,易于維護,低顆粒(陶瓷球機構)。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism),微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。超真空閘閥手動閥

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