微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，鋁閘閥（AL Gate Valve）-產品范圍：1.5英寸~10英寸-12英寸可生產的產品尺寸，閥體材料：鋁、氣動、緊湊設計、重量輕。閘門，閥蓋密封：Viton O-Ring使用次數：100000次，易于維護，低顆粒（陶瓷球機構）。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism)，微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。在機組的給水、主汽、凝結水、抽汽、空氣、循環冷卻水、軸冷水等系統中，均安裝有許多閘閥。Diffusion閘閥手動閥

微泰，高壓閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。可替代VAT閘閥。其特點是*陶瓷球機構產生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。高壓閘閥規格如下：驅動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型：CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數：250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，上海安宇泰環保科技有限公司。HVA閘閥三星半導體微泰閘閥可替代HVA閘閥、VAT閘閥。

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，一、控制系統閘閥。控制系統閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環境中實現精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用。控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設計和堅固的不銹鋼結構，通過閘板旋轉操作。蝶閥可以實現精確的壓力控制和低真空環境。例如半導體和工業過程。蝶閥通過控制器和步進電機自動控制到用戶指定的值，保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內置控制器，可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關閉功能，以應對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態，并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，適用于需要壓力控制的所有加工領域。采用手動調節控制裝置控制，用戶可直接控制閘門的開啟和關閉，以調節壓力。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。

微泰，鋁閘閥應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。期特點是*不論什么工藝的設備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應用:隔離泵。鋁閘閥規格如下：驅動方式：手動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 10英寸、閥體：AL6061 (Anodizing)、機械裝置：AL6061 (Anodizing)、閥門：O型圈(VITON)、真空密封：O型圈(VITON)、響應時間≤ 3 sec、驅動器：氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍：< 1×10-10 mbar ?/sec、開始時的壓差：≤ 30 mbar、初次維護前可用次數100,000次、閥體溫度≤ 120 °執行機構溫度≤ 60 °C、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績。可替代VAT閥門。為特定的真空系統和工藝選擇適當尺寸和類型的真空閘閥對于確保高效運行和可靠的真空完整性至關重要。

微泰主要產品有1、-手動鎖定閥：操作鎖定按鈕關閉正在抽吸中的切斷閥門切斷現象的源頭：2、特殊閥門：全金屬配件構成，由電磁閥+傳感器+D-Sub+角閥組成；3、三位閥：半開功能的壓力控制閥。氣動閘閥：?產品范圍：1.5~30英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次?響應時間：0.2秒~3秒；手動（鎖定）閘閥?產品范圍：1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次；專門用閘閥：產品范圍：1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：25萬次，響應時間：0.2秒客戶指定的法蘭，可安裝角閥；三位閘閥：產品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：20萬次?響應時間：0.2秒~3秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司。控制系統閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。超真空閘閥ALUMINUM GATE VALVE

真空閘閥是真空系統中用于控制氣體進出真空室的機械裝置。Diffusion閘閥手動閥

微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，應用于? Evaporation（蒸發）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上。這節介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥，加熱器插入閘閥：產品范圍：2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數：20萬次?響應時間：0.2秒~3秒；客戶指定法蘭，加熱溫度：450℃；蝶形閥；蝶閥：產品范圍：DN40、DN50隔離?泄漏率：1.0E-9mbar·l/秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環保科技有限公司Diffusion閘閥手動閥